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マスクの種類 半導体露光光源
 

半導体露光光源

g 線
波長
436 nm
光源
UVランプ
   

 

i 線
波長
365 nm
光源
UVランプ
   

 

KrF
波長
248 nm
光源
KrFエキシマレーザー
   

 

ArF
波長
193 nm
光源
ArFエキシマレーザー
   

 

EUV
波長
13.5 nm
光源
DPP(放電方式) LPP(レーザー励起方式)
   

 

 

 


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