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新規開発情報

エムテーシーは新しい製造技術を開発しています。
詳しくは、お問い合わせ下さい。



各サムネールをクリックするとパンフレットが開きます。参照するにはAdobe Readerが必要です。

コ・アキシャルノズルを用いて、狭い範囲でのプロセスを実現します。new!
ナップス - NAPS (Narrow Area Process System)


NAPSは、ポイント処理や基板周辺の処理といった、狭小範囲の現像・剥離処理に最適です。ウエハー・マスク等、幅広く活用できます。

レジスト膨潤を最小限に抑えたマスク用EBR 装置new!
アキュ・トリム - AccuTrim


新方式EBR 処理はEBR 処理時のレジスト盛り上がりをつくりません。

インライン塗布むら評価システム
アキュ・ビュー - AccuView (ACV 100)


AccuView はデジタル画像処理によって短時間で塗布むらを数値化し、全数検査を可能にします。
全自動塗布後ベーキングシステム
アキュ・テンプ - AccuTemp (PAB-200)


AccuTemp は温度プロファイル機能によって高精度なユニフォミティを実現するベーキングシステムです。
全自動急速昇温ベーキングシステム
アキュ・サーム - AccuTherm (RBS)


AccuTherm 急速加熱フォトマスクベーキングシステムは、ウェハ並みの温度プロファイルを実現します。
フォトマスク用レジスト剥離/洗浄システム
アキュ・ゾーン - AccuZone-ZC2


オゾンガスによる、硫酸レスフォトレジスト剥離&洗浄システムです。
45nm フォトマスク対応 高性能水溶性現像装置
アクア45N - Aqua-45N


Aqua45N はスプレーインパクトによるパターン倒れ欠陥を防ぐスリットスキャンタイプの現像システムです。
ペリクル剥離装置
アキュ・ペル - AccuPell (Phoenix D-PEL)


AccuPell は半導体用フォトマスクに貼られたペリクルを、全自動で接着剤の残渣なしに剥離します。
45nm フォトマスク対応のビードレス塗布装置
アキュ・レズ - AccuRez


AccuRez はレジストのビードを形成しないフォトマスク用レジスト塗布装置です。
高性能フォトマスクプロセス向け EC フォトレジスト剥離装置
アキュ・ソルブ - AccuSolve


AccuSolve は新処理液を利用し、フォトマスク材へダメージを与えないレジスト剥離プロセスを実現します。

SystemEye upgrade
アキュ・ソフト - AccuSoft


MTC のフォトマスク製造装置はわかりやすいユーザーインターフェイス(HMI/MMI)とフレキシブルな装置制御ソフトSystemEye を提供します。 SystemEye は装置を操作するための様々なツールや、プロセスを作成するためのツール、装置状態をモニタリング・通知するためのツールといった強力な機能を備えたソフトウェアです。 直感的で分かりやすい操作感は、全てのオペレータへのトレーニング期間を短縮し操作ミスを減らします。


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